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杭州立昂微電子股份有限公司

發佈日期:2017-11-09    流覽次數:99
項目名稱:杭州立昂微電子股份有限公司FAB-C1機電
杭州立昂東芯微電子有限公司FAB-D工程/杭州立昂東芯微電子有限公司含砷廢水工程
工作地點:杭州下沙經濟開發區20號大街199號
建設單位:杭州立昂微電子股份有限公司
建築面積:15840㎡
簡介:杭州立昂微電子股份有限公司位於杭州工業區內,之前主要生產功率器件。16年新增6英寸砷化鎵微波射頻電路晶片生產線。
項目介紹:15年負責MOS生產線的無塵室,面積約為3000㎡
16年負責砷化鎵微波射頻電路晶片生產線的無塵室,面積約為3000㎡
 

 

 

 

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